Imec、世界初のHigh-NA EUVリソグラフィで製造した量子ドット量子ビットデバイスを開発

ベルギー研究機関imecが、最先端のHigh-NA EUV（極端紫外線）リソグラフィ技術を用いて量子ドット量子ビットデバイスの試作に成功。この成果は、量子コンピューティングを次世代AIプロセッサと同じ製造ロードマップ上に載せる可能性があり、開発期間の短縮につながると期待されている。